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9月18 日 – AIXTRON發(fā)布信息稱，公司將支持全球最大的硅外延晶圓代工廠之一 GlobiTech Inc.將其業(yè)務擴展到碳化硅 (SiC) 外延領域。AIXTRON 的新型設備 G10將加速GlobiTech提高 SiC 外延產量，以滿足全球對功率外延晶圓日益增長的需求。

該新聞也快速在業(yè)內引起市場關注，那么隨著GlobiTech攜手AIXTRON進軍碳化硅外延市場，我們可以看到行業(yè)正在發(fā)生變化：

碳化硅行業(yè)長期趨勢的明確信號

增產、降本將是市場主流

一直以來，國內碳化硅市場的外延設備以穩(wěn)定性高，操作簡單的單片爐為主，代表性機型為意大利LPE公司的Pe106/108，該機臺可以實現 900℃高溫自動裝取片，主要特點是生長率高、外延周期短 、片內及爐次間一致性好等 ，在國內市場占有率最高。

國內市場上，晶盛機電、中國電科48所、北方華創(chuàng)、納設智能等公司均開發(fā)了具有類似功能的單片式SiC外延設備，并推進大規(guī)模應用，以上4家公司的水平外延爐均已實現大規(guī)模出貨。

根據InSemi不完全調研，綜合各家的市場信息，憑借穩(wěn)定且可靠的工藝性能，國內單片爐市場存量已累計超過450臺，除此之外各家仍有較多數量的待交付訂單?？梢哉f單片機臺仍是目前的市場主流。

但隨著下游應用的逐步起量，國內外碳化硅產能擴產節(jié)奏加快，碳化硅外延的擴產需求進一步加大，僅國內市場外延項目已超15個。

隨著擴產需求的放大，單片機的產出能力弊端逐步顯現。據LPE透露的單片機月產能僅350片/月。所以市場也在不停探索其他更多提升產能的技術路線。

G10應運而生，這套2022年9月AIXTRON愛思強推出全新的外延系統(tǒng)。據了解，這套高溫CVD系統(tǒng)是用于SiC市場的150/200毫米高通量外延設備（雙晶圓尺寸批處理反應器）。

G10-SiC新平臺

? 支持雙晶圓尺寸：150 mm 和 200 mm

? 市場上最高的晶圓產量/平方米

? 市場上最低的成本/晶圓

? 優(yōu)異的Run-to-Run工藝性能

? 高度均勻、低缺陷的 SiC 外延工藝，可實現最大芯片良率

? 高效的 SiC 襯底基面位錯 (BPD) 轉換

新的平臺是圍繞著AIXTRON愛思強經過驗證的自動化晶圓盒到盒的裝載解決方案和高溫晶圓轉移而建立的。結合高增長率的工藝能力，G10-SiC提供了一流的晶圓吞吐量和每平方米的吞吐量，以有效利用半導體工廠有限的潔凈室空間。

簡單說就是G10是為了碳化硅外延片大規(guī)模量產而生的。

當然，除G10外，今年以來準熱壁立式 CVD 系統(tǒng)的進展也備受市場關注，據國內準熱壁立式 CVD 系統(tǒng)的量產廠家芯三代稱：公司將工藝和設備緊密結合研發(fā)的SiC-CVD設備通過溫場控制、流場控制等方面的設計，在高產能、6/8英寸兼容、COO成本、長時間多爐數連續(xù)自動生長控制、低缺陷率、維護便利性和可靠性等方面都具有明顯的優(yōu)勢。