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9月18 日 – AIXTRON發(fā)布信息稱，公司將支持全球最大的硅外延晶圓代工廠之一 GlobiTech Inc.將其業(yè)務(wù)擴展到碳化硅 (SiC) 外延領(lǐng)域。AIXTRON 的新型設(shè)備 G10將加速GlobiTech提高 SiC 外延產(chǎn)量，以滿足全球?qū)β释庋泳A日益增長的需求。

該新聞也快速在業(yè)內(nèi)引起市場關(guān)注，那么隨著GlobiTech攜手AIXTRON進軍碳化硅外延市場，我們可以看到行業(yè)正在發(fā)生變化：

碳化硅行業(yè)長期趨勢的明確信號

增產(chǎn)、降本將是市場主流

一直以來，國內(nèi)碳化硅市場的外延設(shè)備以穩(wěn)定性高，操作簡單的單片爐為主，代表性機型為意大利LPE公司的Pe106/108，該機臺可以實現(xiàn) 900℃高溫自動裝取片，主要特點是生長率高、外延周期短 、片內(nèi)及爐次間一致性好等 ，在國內(nèi)市場占有率最高。

國內(nèi)市場上，晶盛機電、中國電科48所、北方華創(chuàng)、納設(shè)智能等公司均開發(fā)了具有類似功能的單片式SiC外延設(shè)備，并推進大規(guī)模應(yīng)用，以上4家公司的水平外延爐均已實現(xiàn)大規(guī)模出貨。

根據(jù)InSemi不完全調(diào)研，綜合各家的市場信息，憑借穩(wěn)定且可靠的工藝性能，國內(nèi)單片爐市場存量已累計超過450臺，除此之外各家仍有較多數(shù)量的待交付訂單?？梢哉f單片機臺仍是目前的市場主流。

但隨著下游應(yīng)用的逐步起量，國內(nèi)外碳化硅產(chǎn)能擴產(chǎn)節(jié)奏加快，碳化硅外延的擴產(chǎn)需求進一步加大，僅國內(nèi)市場外延項目已超15個。

隨著擴產(chǎn)需求的放大，單片機的產(chǎn)出能力弊端逐步顯現(xiàn)。據(jù)LPE透露的單片機月產(chǎn)能僅350片/月。所以市場也在不停探索其他更多提升產(chǎn)能的技術(shù)路線。

G10應(yīng)運而生，這套2022年9月AIXTRON愛思強推出全新的外延系統(tǒng)。據(jù)了解，這套高溫CVD系統(tǒng)是用于SiC市場的150/200毫米高通量外延設(shè)備（雙晶圓尺寸批處理反應(yīng)器）。

G10-SiC新平臺

? 支持雙晶圓尺寸：150 mm 和 200 mm

? 市場上最高的晶圓產(chǎn)量/平方米

? 市場上最低的成本/晶圓

? 優(yōu)異的Run-to-Run工藝性能

? 高度均勻、低缺陷的 SiC 外延工藝，可實現(xiàn)最大芯片良率

? 高效的 SiC 襯底基面位錯 (BPD) 轉(zhuǎn)換

新的平臺是圍繞著AIXTRON愛思強經(jīng)過驗證的自動化晶圓盒到盒的裝載解決方案和高溫晶圓轉(zhuǎn)移而建立的。結(jié)合高增長率的工藝能力，G10-SiC提供了一流的晶圓吞吐量和每平方米的吞吐量，以有效利用半導體工廠有限的潔凈室空間。

簡單說就是G10是為了碳化硅外延片大規(guī)模量產(chǎn)而生的。

當然，除G10外，今年以來準熱壁立式 CVD 系統(tǒng)的進展也備受市場關(guān)注，據(jù)國內(nèi)準熱壁立式 CVD 系統(tǒng)的量產(chǎn)廠家芯三代稱：公司將工藝和設(shè)備緊密結(jié)合研發(fā)的SiC-CVD設(shè)備通過溫場控制、流場控制等方面的設(shè)計，在高產(chǎn)能、6/8英寸兼容、COO成本、長時間多爐數(shù)連續(xù)自動生長控制、低缺陷率、維護便利性和可靠性等方面都具有明顯的優(yōu)勢。